 |  | Docenti | Antonio Miotello | | Anno Accademico | 2003-2004 | | Corso di laurea | Fisica applicata | | Anno | 3 | | Settore scientifico-disciplinare | FIS/03 | | Tipologia insegnamento | Caratterizzante | | Crediti | 5 | | Periodo | Bimestre III | | Ore lezione | 42 | | Esercitatori | Marco Bonelli | |
| Obiettivi e contenuti del corso |    |
Il corso di FISICA DEI MATERIALI ( II Unita`) si propone di fornire allo studente gli elementi base per la comprensione dei processi su cui si fondano le tecniche analitiche piu' utilizzate nei moderni laboratori di scienza dei materiali.
E' parte integrante del corso una attivita' guidata nei laboratori di sintesi e di caratterizzazione sia composizionale che strutturale di materiali innovativi sotto forma di film sottili. | |
Tecniche di deposizione: IntroduzionePhysical Vapor Deposition (PVD)Ion Beam Assisted Deposition (IBAD)Pulsed Laser Deposition (PLD) Impiantazione ionicaIntroduzioneInterazione delle particelle cariche pesanti con la materiaTeoria della penetrazione ionica nei solidiAcceleratori di particele elettrostatici: principi di funzionamento Microscopia elettronica a scansione (SEM) e spettroscopia a dispersione di energia dei raggi X (EDS)IntroduzioneInterazioni elettroni-materiaFormazione delle immagini e loro interpretazioneMicroscopio elettronico a scansione: principi di funzionamentoAnalisi EDS qualitativa e quantitativa Tecniche di analisi nucleare: Fondamenti di fisica nucleare: radioattività, fissione nucleare, fusione nucleare, attivazione di isotopiRutherford Backscatterig (RBS)Nuclear Reaction Analysis (NRA) Radiazioni ionizzanti:Interazioni tra le radiazioni ionizzanti e la materiaMisura delle radiazioni: dosimetriaCenni di radioprotezioneEffetti biologici delle radiazioni ionizzantiRadiografia industriale Esperienze di laboratorio:Deposizione di film sottili tramite PVDDeposizione di film sottili tramite PLDModificazione di superfici tramite fascio laserMisura dello spessore dei film, della curvatura dei campioni rivestiti e analisi della morfologia dei campioni irraggiati tramite profilometria della superficieAnalisi morfologica e composizionale dei campioni utilizzando la tecnica SEMDeterminazione del coefficiente di attenuazione per i raggi g in materiali diversi, utilizzando un contatore Geiger-Müler e sorgenti radioattive | |
ESPERIENZA DI LABORATORIO
Deposizione mediante tecnica di sputtering convenzionale e di laser-ablation di films su substrati diversi.
Analisi di tali film mediante profilometro.
Uso del microscopio a scansione elettronica per l'analisi morfologica del film.
Uso della tecnica EDS (Energy Dispersive Spectroscopy) per l'analisi composizionale del film depositato. | |
| Modalità di svolgimento dell'esame | |
Valutazione elaborato su attivita` di laboratorio svolta sotto la guida di personale tecnico. | |
| Dispense del docenteTownsendP.D. et al, Ion Implantation, Sputtering and their Application, Academic Press, 1976Livingston M.S., J.P.Blewett, Particle Accelerators, , McGraw-Hill Book Company, 1962Brown I.G., The Physics and Technology of Ion Sources, John Wiley & Sons, 1989Goldstein J.I. et al., Scanning Electron Microscopy and X-ray microanalysis, Plenum Press, 1992Feldman L.C., J.W. Mayer, Fundamentals of Surface and Thin Film Analysis, North- Holland, Elsevier, 1986 Amaldi U., Fisica delle radiazioni, Borlinghieri, 1978Pelliccioni M., Fondamenti fisici della radioprotezione, Pitagora Editrice Bologna, 1993 | |
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